Máy tạo xung điện áp HPPI TLP-12010A
cung cấp dòng điện đầu ra tăng 30%
CMTI-4010C (CMTI) IEC-60747-5-5 và IEC-60747-17 CMTI 20 000 V/ns
TLP-8010A (có tùy chọn mở rộng mở rộng xung quanh TLP-8012A5) 500 ns chi phí tiết kiệm
CMTI-8010A (CMTI) IEC-60747-5-5 và IEC-60747-17 CMTI 10 000 V/ns
CMTI-8010C 20 000 V/ns
TLP-8012A5 và/hoặc TLP-3011C option) là hệ thống thử nghiệm TLP/VF-TLP/HMM 80 A đã được thực hiện TLP-8010A và TLP-4010C thành một hệ thống
TLP-12010C (với tùy chọn TLP-12012A6 và/hoặc TLP-3011C mở rộng) là hệ thống thử nghiệm TLP/VF-TLP/HMM 120 Tiến trình đầu tiên tốt nhất, hợp nhất các tính năng TLP-12010A và TLP-4010C thành một hệ thống
TLP-16010A (có bộ mở rộng xung quanh tùy chọn TLP-16012A) cung cấp 4 kV đến 50 Ω 160 A, cho các thử nghiệm điều kiện khắc nghiệt
• Dòng điện xung đầu ra cao lên đến ±120 A (ngắn mạch)
• Đầu ra xung điện áp cao 50Ω cực nhanh với thời gian tăng điển hình
300 ps
• Kiểm tra TLP và HMM ở cấp độ wafer, gói và hệ thống
• Công suất đầu ra cực đại 180 kW vào tải 50Ω
• Xung HMM tích hợp lên đến ±32 kV trong cấu hình 50Ω
• Đầu ra kích hoạt 50Ω tốc độ cao cho máy hiện sóng (đồng bộ với đầu ra xung điện áp cao)
• 6 thời gian tăng xung có thể lập trình kỹ thuật số từ: 300 ps đến
50 ns (tùy chọn)
• 1 độ rộng xung tích hợp: 100 ns
• Mở rộng độ rộng xung bên ngoài tùy chọn từ 5 ns đến
500 ns bằng bộ mở rộng độ rộng xung bên ngoài TLP12012A6
• Tích hợp chức năng triệt tiêu phản xạ xung
• Thời gian đo nhanh, thông thường ít hơn 0,2 giây cho mỗi
xung bao gồm phép đo DC một điểm giữa
xung
• Phần mềm hiệu quả để kiểm soát hệ thống và quản lý dữ liệu dạng sóng
• Phần mềm có thể kiểm soát các đầu dò tự động để đo nhanh toàn bộ các tấm wafer
• Tắt an toàn liên động tích hợp
• Giao diện điều khiển USB được cách ly công nghiệp và bảo vệ EMI/ESD